| 有限会社十文字光学 |
| ■沿革 |
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昭和47年04月
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有限会社大木光学工業所（さいたま市）秋田工場を設立、操業する。 |
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昭和52年10月
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有限会社大木光学工業所から秋田工場を分離し有限会社十文字光学を新たに現地法人として設立する。（資本金500万円）
（保谷硝子株式会社よりﾌｨﾙﾀｰ生産を受託） |
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昭和54年10月
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資本金を600万円に増資する。 |
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昭和56年02月
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資本金を1,200万円に増資する。 |
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昭和56年08月
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社屋・工場を仁井田字堰南27-1に移転、十文字町誘致企業の指定を受ける。
（富士写真光機株式会社より平行平面ガラス生産を受託） |
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平成02年11月
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資本金を2,400万円に増資する。 |
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平成04年05月
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社屋・工場を現在地に新築移転する。 |
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平成09年02月
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工場を増床する。 |
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平成14年12月
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ISO14001認証を取得する。（E02-305） |
| ■生産現場のご紹介 |
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両面Lap機でφ76(直径7.6cm)x0.4t(厚み0.4mm)材の研磨加工が終了した状態です。
最近の傾向として、厚みが0.5mm以下が増加しています。このような研磨品は、最終製品として、電子部品となり、CD,CD-R,CD-RW,COMBO等に組み込まれています。 |
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手にしているのは、φ200x0.3t材です。
光学ガラスの研磨品の中では、難易度の非常に高い形状となります。
定常的に高品質の研磨品を顧客に提供する為に、日夜、機械はもとより、研磨材等の濃度管理を徹底的に行い、安定した製品を作り続けています。 |
| ■新設備のご紹介 |
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平成15年3月に１８Ｂ機３台の更新として、24B機を2台導入しました。
これにより、従来機の２．３倍程度の研磨量が確保できましたので、ＩＳＯ１４０００の環境目標として当社が掲げた「省資源、省エネ」に十分貢献することになります。
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| ■主要設備一覧 |
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・ﾛｰﾀﾘｰ研削盤（φ600）
・ﾛｰﾀﾘｰ研削盤（φ1000)
・ＮＣ切断機（1000×800）
・ＮＣ面取機
・自動供給芯取機
・外周加工機（φ500）
・外周（丸目）加工機
・自動面取機 |
1台
3台
1台
2台
17台
2台
1台
2台
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・両面平面Ｌａｐ機 （9B〜24B）
・両面平面研磨機 （9B〜24B）
・洗浄装置 （８槽式）
・超純水装置
・検査ｸﾘｰﾝﾙｰﾑ（class1000）
・ﾚｰｻﾞｰ干渉計（φ80〜φ200）
・斜入射ﾚｰｻﾞｰ干渉計 |
15台
25台
一式
一式
一式
6台
1台
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